機械／半導体・FPD製造技術-条件出しのエンジニア転職・求人情報

【魅力・やりがい】
・電源回路の答えが、実測波形としてすぐ見えるため、設計結果を数字で確認できる。
・DC-DC、LDO、保護回路、起動シーケンスなど、電源設計の要点をまとめて扱える。
・試作段階の不具合に対して、波形・温度・ノイズから原因を絞り込み、設計に反映できる。
・半導体製品の動作安定性に直結するため、回路1つの変更が製品品質に反映される。
・回路図作成、実測、再設計まで担当できるので、設計者としての引き出しを増やしやすい。
・他案件との差別化として、評価機器を使った実機追い込みを経験できる点が大きい。

【キャリアパス】
1年目：半導体評価の手順、測定条件、データ記録方法を習得し、評価結果の集計・グラフ化・報告資料作成を担当
2年目：評価条件の変更案を自分で組み立て、実験計画の作成、装置条件の調整、改善前後の比較評価まで担当
3年後：プロセス改善テーマの主担当として、装置改造の要件整理、関係部署との調整、再評価の進行管理まで一貫して担当
【職場環境】
評価・解析・改善の流れを同じ現場で回せるため、測定だけ、資料作成だけで終わらない業務設計
装置条件の変更や改造時は、評価データを見ながら設備・製造・開発と連携し、数値を根拠に条件出しを進める環境
【魅力・やりがい、身に付くスキル】
魅力：評価、データ集計、改善、装置改造までを分断せずに担当でき、プロセス開発の全体像を手を動かしながら追える
やりがい：測定結果の差分を見て、温度・圧力・ガス流量・装置条件の変更が特性値にどう反映されたかを数値で確認できる
身に付くスキル：半導体評価、評価データの集計・比較分析、実験条件設計、装置改造時の仕様整理、関係部署との調整スキル
必要であれば次に、この内容を「より高単価案件向け」に寄せた版、または未経験者向けではなく経験者採用に刺さる表現へ強化した版に整えます。

【キャリアパス】
1年目：フォトリソグラフィ工程の試作実施、レジスト塗布・露光・現像条件の記録、装置操作手順の習得
2年目：不良解析、条件変更による比較評価、DOEを用いた条件出し、歩留まり改善案の立案
3年後：設備条件の標準化、試作計画の主担当、関係部門を巻き込んだ工程確立・改善のリード

【職場環境】
・LNウェハのフォトリソグラフィ試作に特化した環境で、クリーンルーム内での装置操作・条件検証を実施
・製造、設備、品質の各担当と連携し、試作データをもとに条件確立まで一気通貫で進める体制

【魅力、やりがい、身に付くスキル】
・魅力：LNウェハ×フォトリソグラフィの試作製造から設備条件の確立まで担当するため、量産前の工程づくりに深く関われる差別化業務
・やりがい：レジスト塗布、露光、現像、歩留まり不良の解析を自分の手で回し、条件変更の結果が数値で返ってくる業務
・身に付くスキル：フォトリソグラフィ条件設計、設備条件最適化、データ解析、歩留まり改善、工程標準化、関係部門との技術折衝

当社エンジニアが多数！アドバイスをもらいやすい環境です！
数年後に世界で販売される製品に携わる事ができます。
食堂、カフェテリアなどがあり、落ち着いた雰囲気の新しい研究棟でのお仕事になります。
土日祝休み。ワークライフバランスが実現できます。